高真空膜滲透設(shè)備采用進(jìn)口CKD電磁閥程序自動(dòng)化控制,設(shè)計(jì)合理,操作簡(jiǎn)單,實(shí)驗(yàn)誤差小,實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可靠。
高真空膜滲透設(shè)備該高真空膜滲透裝置內(nèi)部閥控部件全部采用日本進(jìn)口CKD電磁閥程序控制,該裝置結(jié)構(gòu)布局合理,操作便捷,可實(shí)現(xiàn)膜滲透實(shí)驗(yàn)的穩(wěn)定進(jìn)行。該設(shè)備工作溫度室溫8~60℃,工作壓力為0~1Mpa,真空度可低至3 Pa。設(shè)備通訊模塊皆采用rs485通訊連接,采集數(shù)據(jù)穩(wěn)定,可實(shí)驗(yàn)自動(dòng)循環(huán)抽真空和手動(dòng)抽真空等操作。
工作溫度:室溫8~60℃
真空度:3 Pa
使用壓力:0~1Mpa
高真空膜滲透設(shè)備可用于測(cè)試0-10mpa壓力范圍內(nèi)的動(dòng)態(tài)多元材料吸附測(cè)試;設(shè)備安裝穩(wěn)定的背壓閥及氣體高壓倉(cāng),用于快速穩(wěn)定的實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)壓力穩(wěn)定及氣體流速穩(wěn)定。